特許

J-GLOBAL ID：200903081872596262

微小球状シリカの製造方法

発明者： 加藤 寛 ,  池田 篤海 ,  大原 雅和
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-280073
公開番号（公開出願番号）：特開2001-097712
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：

【要約】【課題】 気相溶融法によって、平均粒子径が0.1〜5μmの範囲の平均粒子径とシャープな粒度分布を持った高純度の微小球状シリカを精度良く製造する。【解決手段】 ヒュームドシリカスラリーを乾燥させて得られる固体状シリカを粉砕してシリカ粉末を得た後、該シリカ粉末をバーナーの火炎中で溶融球状化させる。

請求項（抜粋）：

ヒュームドシリカスラリーを乾燥させて得られる固体状シリカを粉砕してシリカ粉末を得た後、該シリカ粉末をバーナーの火炎中で溶融球状化させることを特徴とする微小球状シリカの製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/18 ,  C03B 20/00

FI (2件)：

C01B 33/18 E ,  C03B 20/00 D

Fターム (17件)：

4G014AH12 ,  4G072AA28 ,  4G072BB07 ,  4G072CC18 ,  4G072DD04 ,  4G072DD05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH19 ,  4G072LL06 ,  4G072MM02 ,  4G072MM26 ,  4G072MM38 ,  4G072PP17 ,  4G072RR11 ,  4G072TT01 ,  4G072UU07 ,  4G072UU09