特許
J-GLOBAL ID：200903081879894064
微細パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西田 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-129287
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082407
出願日： 1991年05月31日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：
【要約】【目的】下地パターンを形成することなく、且つ市販の一般的なウエハーステッパーにより位置ずれの生じる恐れなく多重露光を行える微細パターン形成方法を提供する。【構成】ウエハー上に、下地パターンを形成することなくレジストを塗着し、このレジストに、多重露光用パターンによる第1回目の露光を行ない、この露光によりブリーチされてなるレジストの潜像を、以後の多重露光用マスクの位置合わせ用パターンとして用いて多重露光を行う。従って、下地パターンを形成しないことから工数を相当に削減することができるだけでなく、下地パターン用マスクが不要であって従来のマスク間の誤差は無関係となり、パターンのずれなく多重露光を行うことかできる。
請求項（抜粋）：
ウエハーに、ウエハーステッパーによりこれのマスクパターンを露光して投影転写し、このウエハーステッパーのレンズの露光焦点位置を数回変化させ且つ露光して微細パターンを形成する方法において、ウエハー上に、マスク位置合わせ用下地パターンを形成することなくレジストを塗着し、このレジストにウエハーステッパーによりこれの多重露光用マスクパターンを露光して投影転写した後に、アンロードされたウエハーを、現像することなくレジストにおける前記露光によりブリーチされた潜像を基にしてマスクに対し位置合わせを行って同一露光位置にロードし、ウエハーステッパーのレンズの露光焦点位置を変化させた後に露光し、このウエハーのアンロード、潜像を基に位置合わせしてのウエハーのロード、レンズの露光焦点位置の変化および露光の一連工程を数回繰り返すことを特徴とする微細パターン形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 C
, H01L 21/30 361 S
