特許

J-GLOBAL ID：200903081889541305

フォトマスク

発明者： 渡辺 陸司 ,  植月 正雄
出願人/特許権者： 株式会社クラレ
代理人 (1件)： 杉本 修司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059013
公開番号（公開出願番号）：特開平5-224396
出願日： 1992年02月10日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：

【要約】【目的】 感光性樹脂上に所定のパターンで露光するときの光の利用効率を高めて、露光時間の短縮を図るとともに、複雑な3次元形状のパターンを容易に形成でき、しかも、着色や光劣化などの副反応を招くことなく、耐久性に優れたパターンを容易に転写できるフォトマスクを提供する。【構成】 前面側に配置した感光性樹脂(被加工部材)4上に、所定のパターンにしたがって集光して露光するレンズアレー11を備えたマイクロレンズにより、フォトマスク10を構成する。このフォトマスク10は光不透過部がないので、光利用率が高い。また、光の強度分布を適宜コントロールすることにより、複雑な形状のパターンが容易に得られる。さらに、被加工部材の裏面近傍に合焦させて露光することにより、被加工部材の表面側の着色や光劣化を抑制できる。

請求項（抜粋）：

背面側からの光を前面側へ透過させて、前面側に配置された被加工部材上に、所定のパターンで露光を行なうフォトマスクであって、上記所定のパターンにしたがって集光して露光するレンズアレーを備えたマイクロレンズからなるフォトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-149285
  
• 特開昭56-168654
  
• 特開平3-020733