特許

J-GLOBAL ID：200903081933307277

放射線像変換パネル及びその製造方法

発明者： 青木 雄二
出願人/特許権者： 化成オプトニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-259286
公開番号（公開出願番号）：特開2001-051100
出願日： 1999年08月10日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：

【要約】【目的】 解像度を低下させることなく感度をより向上させた放射線像変換パネル並びにその製造方法を提供する。【解決手段】 結合剤中に蛍光体粒子を分散させた蛍光体層と光反射性材料を分散させた光反射層とをこの順にファイバーオプティックプレートの一端面に積層させてなる放射線像変換パネルとその製造方法。

請求項（抜粋）：

結合剤中に蛍光体粒子を分散させた蛍光体層と光反射性材料を分散させた光反射層とをこの順にファイバーオプティックプレートの一端面に積層させてなる放射線像変換パネル。

IPC (2件)：

G21K 4/00 ,  C09K 11/84 CPD

FI (2件)：

G21K 4/00 M ,  C09K 11/84 CPD

Fターム (16件)：

2G083AA02 ,  2G083BB01 ,  2G083CC02 ,  2G083CC05 ,  2G083CC10 ,  2G083DD02 ,  2G083DD11 ,  2G083DD15 ,  2G083DD16 ,  2G083EE02 ,  2G083EE03 ,  4H001CA08 ,  4H001XA08 ,  4H001XA16 ,  4H001XA64 ,  4H001YA65