特許
J-GLOBAL ID：200903081941800373
ファインパターン形成用極薄銅張シート
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-211881
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054866
出願日： 1997年08月06日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】 ファインライン作成が可能な極薄銅張シートを得る。【解決手段】 電解法によって得られる銅の粒子径が1μm以下であり、実質的な銅箔厚さ3〜9μmで、銅箔マット面の銅箔足の長さが5μm以下の銅箔のマット面に連続的に、必要により補強基材の入ったシートを接着して得られるファインパターン形成用極薄銅張シート。【効果】 細密パターンの作成においてパターン切れ、ショート等の不良発生がなく、且つ、多官能性シアン酸エステル樹脂組成物を接着用の樹脂として使用することにより、ガラス転移温度が高く、PCT後の電気絶縁性等の信頼性、耐薬品性に優れたものが得られた。
請求項（抜粋）：
電解法によって得られる銅の粒子径が1μm以下であり、実質的な銅箔厚さ3〜9μmで、銅箔マット面の銅箔足の長さが5μm以下の銅箔のマット面に連続的に、必要により補強基材の入ったシートを接着して得られるファインパターン形成用極薄銅張シート。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05K 1/09 A
, H05K 3/38 E
