特許

J-GLOBAL ID：200903081954630558

熱処理装置及びその運転方法

発明者： 小林 聡樹
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-235854
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066145
出願日： 1993年08月30日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【目的】 真空下での処理中に常圧排気系からの排ガス等の逆流を防止することができ、真空下での処理及び常圧下での処理の両方を行うことができる熱処理装置及びその運転方法を提供する。【構成】 被処理体Wの処理を行う処理室3に、処理ガス供給部14a〜14c及び排気系を接続してなる熱処理装置1において、前記排気系を真空排気系26と常圧排気系27とにより構成し、この常圧排気系27に一対の弁V5,V6を設け、これら両弁V5,V6間に真空引き手段37を接続している。従って、真空排気系26を作動させて処理を行うときに、常圧排気系27の一対の弁V5,V6を閉じ、これら両弁V5,V6間を真空引きすることにより、真空下での処理中に常圧排気系27からの排ガス等の逆流を防止することができるようになるため、真空下での処理及び常圧下での処理の両方を行うことができる熱処理装置を提供できる。

請求項（抜粋）：

被処理体の処理を行う処理室に、処理ガス供給部及び排気系を接続してなる熱処理装置において、前記排気系を真空排気系と常圧排気系とにより構成し、この常圧排気系に一対の弁を設け、これら両弁間に真空引き手段を接続してなることを特徴とする熱処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324

FI (2件)：

H01L 21/31 E ,  H01L 21/31 C