特許

J-GLOBAL ID：200903081960609927

ホウ素選択吸着能を有する有機多孔質体、これを用いたホウ素除去モジュールおよび超純水製造装置

発明者： 井上 洋 ,  山中 弘次
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (2件)： 赤塚 賢次 ,  福田 保夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-230996
公開番号（公開出願番号）：特開2004-066153
出願日： 2002年08月08日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：

【課題】ホウ素吸着能力が高く、かつ安定性に優れたホウ素選択吸着能を有する有機多孔質体、それを用いたホウ素除去モジュールおよび超純水製造装置を提供すること。【解決手段】互いにつながっているマクロポアとマクロポアの壁内に孔径が0.02〜200μmのメソポアを有する連続気泡構造を有し、全細孔容積が1〜50ml/gであり、更にホウ酸と錯体を形成する化合物を共有結合を介して1μmol/g乾燥多孔質体以上導入させたホウ素選択吸着能を有する有機多孔質体、これを用いたホウ素除去モジュールおよび超純水製造装置。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

互いにつながっているマクロポアとマクロポアの壁内に孔径が0.02〜200μmのメソポアを有する連続気泡構造を有し、全細孔容積が1〜50ml/gであり、更にホウ酸と錯体を形成する化合物を共有結合を介して1μmol/g乾燥多孔質体以上導入させたことを特徴とするホウ素選択吸着能を有する有機多孔質体。

IPC (3件)：

B01J20/28 ,  C02F1/28 ,  C02F1/42

FI (3件)：

B01J20/28 Z ,  C02F1/28 F ,  C02F1/42 E

Fターム (32件)：

4D024AA03 ,  4D024AB14 ,  4D024BB01 ,  4D024CA01 ,  4D024DB19 ,  4D025AA04 ,  4D025AB02 ,  4D025AB05 ,  4D025AB33 ,  4D025BA09 ,  4D025BA10 ,  4D025BA14 ,  4D025BA15 ,  4D025BA17 ,  4D025BA22 ,  4D025BA25 ,  4D025BA28 ,  4D025BB01 ,  4D025DA02 ,  4G066AB12B ,  4G066AB26A ,  4G066AB26B ,  4G066AC14C ,  4G066AC35C ,  4G066AD20B ,  4G066BA23 ,  4G066BA24 ,  4G066BA25 ,  4G066BA36 ,  4G066CA21 ,  4G066FA08 ,  4G066FA38