特許
J-GLOBAL ID：200903081962366070
縮小投影型露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-203304
公開番号（公開出願番号）：特開平6-053110
出願日： 1992年07月30日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：
【要約】【目的】縮小倍率を一定に制御することで合わせズレの発生を防止する。【構成】レチクル13には遮光膜により半導体回路パターンが描かれているが、半導体回路パターンのうち少なくとも第1層目のパターンには補正マーク17が描かれている。まず、紫外線Aをレチクル13に照射すると、遮光膜以外の部分の紫外線Aはレチクル13を通過して縮小レンズ14により縮小される。このとき、倍率補正機15において、縮小倍率は既に半導体基板12上に形成された下層の半導体回路パターン16の補正マーク17を計測することにより、縮小レンズ14内の気圧の制御を行い、下層半導体回路パターン16と同縮小倍率にする。したがって、各縮小投影型露光装置間において常に一定した縮小倍率に保つことができる。
請求項（抜粋）：
遮光膜に描かれた半導体回路パターンを通過した光を、内部気圧に応じて縮小倍率が変化する縮小レンズ部で縮小して半導体基板上に投影して前記半導体基板上に前記半導体回路パターンを作る縮小投影型露光装置であって、前記半導体回路パターンのうち少なくとも第1層目のパターンに補正マークを設け、前記半導体基板上に既に形成された下層半導体回路パターンの補正マークを計測することにより前記縮小レンズ部の内部気圧を前記下層半導体回路パターンと縮小倍率が同じになるように制御する縮小倍率補正手段を備えた縮小投影型露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
