特許
J-GLOBAL ID：200903081964849779
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-049997
公開番号（公開出願番号）：特開平6-244147
出願日： 1993年02月16日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 簡単な構成によって被処理体の突き上げに用いられる部材と載置台との間の異常放電の発生や取り出し不能となるのを防止することのできる構造を備えたプラズマ処理装置を提供することにある。【構成】 プラズマ生成用の対向電極の一方32に静電チャック40および被処理体の突き上げ用部材70を設けた構成において、突き上げ用部材70と対向電極32とを電気的接続70Bするとともに、対向電極32へのRF電力の供給電路84中に対向電極32に帯電する可能性がある電荷を放電する接地回路100を設ける。従って、対向電極32へのRF電力供給電路84に残留する電荷が放電されることで突き上げ用部材70と対向電極32との間の電位差をなくして異常放電を防ぐことができる。
請求項（抜粋）：
対向電極の一方に設けられた静電チャックにより半導体ウエハ等の被処理体を吸着保持した状態で上記対向電極の一方あるいは両方に対してRF電力を供給することでプラズマ処理を行い、プラズマ処理が終了したときに突き上げ用部材により被処理体を突き上げて取り出す構造を備えたプラズマ処理装置において、上記突き上げ用部材を対向電極の一方に電気的接続し、この対向電極の一方に接続されているRF電力供給用回路中に上記突き上げ用部材の接地回路を接続したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/302
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/68
