特許
J-GLOBAL ID:200903081978496496
排ガス処理装置および排ガス処理方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
光石 俊郎
, 光石 忠敬
, 田中 康幸
, 松元 洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-364380
公開番号(公開出願番号):特開2007-167698
出願日: 2005年12月19日
公開日(公表日): 2007年07月05日
要約:
【課題】処理コストの増加を抑制し、且つ排ガス中の水銀を効率良く除去することができる排ガス処理装置および排ガス処理方法を提供することことにある。【解決手段】窒素酸化物、硫黄酸化物、金属水銀、塩化水素を含有する排ガスを処理する排ガス処理装置20であって、排ガス中の塩化水素濃度に応じて該排ガスを所定の温度に制御する冷却器1と、所定の温度に制御された排ガス2にアンモニア3が添加されて導入され、排ガス中の窒素酸化物を還元して除去する一方、該排ガス中の水銀と塩化水素とを反応させて塩化水銀を生成する脱硝触媒4と、脱硝触媒4の後流に配置され、前記排ガス中の硫黄酸化物および塩化水銀を吸収液5に溶解させて除去する湿式脱硫装置6とを有したことで、装置自体を簡易として、処理コストの増加を抑制するようにした。【選択図】図1
請求項(抜粋):
窒素酸化物、硫黄酸化物、金属水銀、塩化水素を含有する排ガスを処理する排ガス処理装置であって、
排ガス中の塩化水素濃度に応じて該排ガスを所定の温度に制御する温度制御手段と、
所定の温度に制御された排ガスにアンモニアが添加されて導入され、排ガス中の窒素酸化物を還元して除去する一方、該排ガス中の水銀と塩化水素とを反応させて塩化水銀を生成する触媒と、
前記触媒の後流に配置され、前記排ガス中の硫黄酸化物および塩化水銀を吸収液に溶解させて除去する除去手段とを有した
ことを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (8件):
B01D 53/86
, B01J 23/30
, B01J 23/28
, B01D 53/50
, B01D 53/77
, B01D 53/56
, B01D 53/68
, B01D 53/64
FI (7件):
B01D53/36 Z
, B01J23/30 A
, B01J23/28 A
, B01D53/34 125A
, B01D53/34 129B
, B01D53/34 134B
, B01D53/34 136A
Fターム (47件):
4D002AA02
, 4D002AA12
, 4D002AA19
, 4D002AA29
, 4D002BA02
, 4D002BA06
, 4D002CA13
, 4D002DA02
, 4D002DA05
, 4D002DA07
, 4D002DA70
, 4D002EA02
, 4D002GA01
, 4D002GB03
, 4D002HA01
, 4D048AA06
, 4D048AA30
, 4D048AB02
, 4D048AB05
, 4D048AC04
, 4D048BA07X
, 4D048BA23X
, 4D048BA26X
, 4D048BA27X
, 4D048BA41X
, 4D048CC32
, 4D048CD02
, 4D048DA01
, 4D048DA02
, 4G169AA02
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BC54A
, 4G169BC54B
, 4G169BC59A
, 4G169BC59B
, 4G169BC60A
, 4G169BC60B
, 4G169CA02
, 4G169CA07
, 4G169CA08
, 4G169CA11
, 4G169CA12
, 4G169CA13
, 4G169FC08
引用特許: