特許

J-GLOBAL ID：200903081985353250

高密度情報記録ディスク複製用フォトマスク及びそれを用いた複製方法

発明者： 原田 俊雄
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-077089
公開番号（公開出願番号）：特開平5-282708
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：

【要約】【目的】 安価に製造でき、劣化が少なく、かつ書き換え可能な、複製ディスク複製用のフォトマスク及びこれを用いた複製方法を提供することを目的とする。【構成】 基板にフォトクロミック材料を塗布した色素層に光の照射による光学的濃淡の形で情報が消去可能に書き込まれてなる高密度情報記録ディスク複製用フォトマスクであり、またこれを用いて複製用ディスクに情報を転写する場合に、短波長側の光と長波長側の光とを同時に前記フォトマスクに照射し、該フォトマスクを通過した光によって前記複製用ディスクに情報を複製するものである。

請求項（抜粋）：

基板にフォトクロミック材料を塗布した色素層に光の照射による光学的濃淡の形で情報が消去可能に書き込まれてなる高密度情報記録ディスク複製用フォトマスク。