特許

J-GLOBAL ID：200903081985451090

真空処理装置及びその運転方法

発明者： 岩田 輝夫 ,  林 和一 ,  山口 建治 ,  鈴木 寿哉 ,  坂井 拓哉
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  富士通株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-125889
公開番号（公開出願番号）：特開平8-298234
出願日： 1995年04月25日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【目的】 真空処理を行うための処理室に真空排気のための排気路を接続し、この排気路中に生成物を捕集するトラップを設けた真空処理装置について装置のダウンタイムを少なくすること。【構成】 処理室2に排気管31及びターボ分子ポンプ41を接続し、その下流側の排気路の一部を並列化して両流路50、60に夫々トラップ6、7を設けると共にトラップ6、7の両側にバルブ51(61)、52(62)を設け、トラップ6、7には洗浄液の供給管7(8)、排液管72、乾燥ガスの供給管73(83)及び排気管74(84)を接続する。そして一方のトラップ6(7)を使用しているときは他方のトラップ7(6)の両側のバルブを閉じて例えば洗浄水を供給して生成物を洗浄し、次いで乾燥ガスで内部を乾燥する。

請求項（抜粋）：

処理ガスを導入して真空雰囲気下で被処理体に対して真空処理を行うための気密な処理室と、この処理室に接続された排気路とを有する真空処理装置において、前記排気路中に設けられ、互いに並列に接続された第1の流路及び第2の流路と、前記第1の流路及び第2の流路に夫々設けられ、前記処理室から排気された生成物を捕集する第1の捕集部及び第2の捕集部と、前記第1の流路及び第2の流路において第1の捕集部及び第2の捕集部の各上流と下流側とに設けられたバルブと、を備えたことを特徴とする真空処理装置。