特許
J-GLOBAL ID：200903081986357365
ウェハ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062638
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260855
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】 本発明は所望の処理を行うためにウェハを静電チャックに固定するウェハ処理装置に関し、ウェハを静電チャックに固定するまでの処理を効率的に実行することを目的とする。【解決手段】 処理容器内でウェハ34を加熱するヒータ36を設ける。ウェハ34を載せるための誘電体板24を設ける。誘電体板24内部に第1および第2の電極26,28を配置する。第1および第2の電極26,28の各々に電圧を印加するための第1および第2の可変直流電源30,32を設ける。ウェハ34が静電チャック40に載置されたら、吸着力を発生する前にウェハ34を予備加熱する。予備加熱終了後に、第1および第2の可変直流電源30,32より第1および第2の電極26,28に電圧を印加してウェハ34を誘電体板24に吸着・保持する。
請求項（抜粋）：
処理容器内でウェハを加熱する機構と、前記ウェハを載せるための誘電体板と、前記誘電体板内部に配置される少なくとも2個所以上の電極と、前記電極の各々に電圧を印加するための可変直流電源と、を具備した静電チャックを有するウェハ処理装置であって、前記可変直流電源より前記電極に電圧を印加して前記ウェハを前記誘電体板上に吸着・保持する前に、前記静電チャックに載置された前記ウェハを予備加熱する予備加熱手投を有したことを特徴とするウェハ処理装置。
Fターム (11件)：
5F031CA02
, 5F031HA18
, 5F031HA19
, 5F031HA37
, 5F031MA23
, 5F031MA28
, 5F031MA29
, 5F031MA31
, 5F031MA32
, 5F031PA13
, 5F031PA20
