特許

J-GLOBAL ID：200903081987643000

薄膜の形成方法

発明者： 関根 伸行 ,  川上 春雄 ,  加藤 久人 ,  加藤 恭子
出願人/特許権者： 富士電機ホールディングス株式会社
代理人 (1件)： 松井 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-085654
公開番号（公開出願番号）：特開2006-269740
出願日： 2005年03月24日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：

【課題】 アセン系化合物を溶解させた溶液の取り扱い性に優れ、均一かつ、粒径の大きな結晶粒で構成された結晶性の薄膜を提供する。【解決手段】 式(1)で表されるアセン系化合物を含む有機電子材料を、シクロヘキサンと、アセン系化合物を溶解しうる溶媒との混合溶媒に溶解させ、その溶液を基板に塗布して該有機電子材料の結晶性薄膜を形成する。(式中、nは1〜3の整数である。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下式(1)で表されるアセン系化合物を含む有機電子材料を、シクロヘキサンと、アセン系化合物を溶解しうる溶媒との混合溶媒に溶解させ、その溶液を基板に塗布して該有機電子材料の結晶性薄膜を形成することを特徴とする薄膜の形成方法。

IPC (1件)：

H01L 21/368

FI (1件)：

H01L21/368 L

Fターム (7件)：

5F053AA00 ,  5F053DD19 ,  5F053FF01 ,  5F053GG02 ,  5F053HH05 ,  5F053LL02 ,  5F053RR01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 車両走行制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-197651   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立カーエンジニアリング