プラズマエツチング装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木正次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-293572
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109664
出願日： 1991年10月14日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】被加工物の汚染の発生を少なくし、かつエッチングの均一性の向上を図ることができるプラズマエッチング装置を提供する。【構成】電極4、6の間にガスを導入し、電極間に高周波電力を供給してプラズマを発生させて被加工物5をエッチングするプラズマエッチング装置である。電極4の電極6と対向する面に、c軸8を前記面に垂直とした、バルク熱分解カーボンからなるガス導入板2が設けてある。ガス導入板2と電極4間に間隙3が保ってある。ガス導入板2の外周部は電極4と電気的および熱的に接触している。また、ガス導入板2には間隙3に連通するガス吹き出し穴9が設けてある。

請求項（抜粋）：

被加工物を支持した支持電極と、該支持電極に対向させた対向電極との間に、ガスを導入し、電極間に高周波電力を供給してプラズマを発生させて、前記被加工物をエッチングするプラズマエッチング装置において、前記対向電極の、支持電極と対向する面に、c軸を前記面に対して垂直とした、バルク熱分解カーボンからなるガス導入板が、対向電極と間隙を保って設置してあり、ガス導入板の外周部が対向電極と、電気的および熱的に接触していると共に、ガス導入板には、前記間隙と連通するガス吹き出し穴が設けてあることを特徴とするプラズマエッチング装置。

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