特許

J-GLOBAL ID：200903081992317502

複眼撮像系、撮像装置および電子機器

発明者： 加藤 之英
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 岸田 正行 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-366179
公開番号（公開出願番号）：特開2002-171429
出願日： 2000年11月30日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】 複眼撮像系において、複眼光学系から撮像素子上の各撮像ブロックへの不要光入射を防止するのが難しい。【解決手段】 複数の光学ブロック11-1〜11-25により構成された複眼光学系10と、上記複数の光学ブロックを通過した光束によりそれぞれ形成される像を撮像する複数の撮像ブロック14-1〜14-25を有する撮像素子12と、複眼光学系と撮像素子との間に配置された保護ガラス30とを備えた複眼撮像系において、複眼光学系と保護ガラスとの間に、各光学ブロックから撮像ブロックに向かう各光束の通路を仕切る遮光壁40を配置し、保護ガラスに各光学ブロックから対応する撮像ブロック以外の撮像ブロックへの不要光の入射を遮る遮光覆い610,620を設け、複数の撮像ブロックの間に遮光覆いに形成された光通過領域を通過した不要光による撮像を行わない非撮像領域を設ける。

請求項（抜粋）：

複数の光学ブロックを有して構成された複眼光学系と、これら複数の光学ブロックを通過した光束により形成される像をそれぞれ撮像する複数の撮像ブロックを有する撮像素子と、前記複眼光学系と前記撮像素子との間に配置された保護ガラスとを備えた複眼撮像系において、前記複眼光学系と前記保護ガラスとの間に、前記各光学ブロックからそれぞれの光学ブロックに対応する撮像ブロックに向かう各光束の通路を仕切る遮光壁を配置し、前記保護ガラスに、前記各光学ブロックからそれぞれの光学ブロックに対応する撮像ブロック以外の撮像ブロックへの不要光の入射を遮る遮光覆いを設け、前記撮像素子における前記複数の撮像ブロックの間に、前記遮光覆いに形成された光通過領域を通過した不要光による撮像を行わない非撮像領域を設けたことを特徴とする複眼撮像系。

IPC (4件)：

H04N 5/225 ,  G02B 3/00 ,  G02B 7/02 ,  G03B 19/02

FI (6件)：

H04N 5/225 D ,  H04N 5/225 C ,  H04N 5/225 Z ,  G02B 3/00 A ,  G02B 7/02 D ,  G03B 19/02

Fターム (8件)：

2H044AD01 ,  2H054AA01 ,  5C022AA01 ,  5C022AA08 ,  5C022AA13 ,  5C022AC42 ,  5C022AC51 ,  5C022AC54