特許

J-GLOBAL ID：200903082009088158

X線マスク構造体及びその製造方法、そのX線マスク構造体を用いたX線露光装置、X線露光方法及びデバイスの製造方法、並びにその方法により製造されたデバイス

発明者： 千葉 啓子
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-079932
公開番号（公開出願番号）：特開平9-275051
出願日： 1996年04月02日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：

【要約】【課題】 高精度な位置合わせが可能なX線マスク構造体、及びその製造方法を提供する。【解決手段】 所望のパターンを有するX線吸収体、該X線吸収体を支持するX線透過性支持膜、及びこれらを保持する保持枠からなり、前記支持膜に位置合わせ用マークが形成されたX線マスク構造体において、前記支持膜の位置合わせに用いられる領域の前記マーク部と非マーク部とで、支持膜の光学的透過率が異なることを特徴とするX線マスク構造体。

請求項（抜粋）：

所望のパターンを有するX線吸収体、該X線吸収体を支持するX線透過性支持膜、及びこれらを保持する保持枠からなり、前記支持膜に位置合わせ用マークが形成されたX線マスク構造体において、前記支持膜の少なくとも位置合わせに用いられる領域の前記マーク部と非マーク部とで、支持膜の光学的透過率が異なることを特徴とするX線マスク構造体。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (4件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 531 A