特許
J-GLOBAL ID:200903082024842918

圧力勾配CVI/CVD装置、方法および製品

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大島 正孝
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-516358
公開番号(公開出願番号):特表平10-508906
出願日: 1995年11月16日
公開日(公表日): 1998年09月02日
要約:
【要約】本発明は、多孔質構造内への結合性マトリックスの化学蒸気浸透および析出によって作られる高温度コンポジットの分野に関する。特に、本発明は多孔質構造中への反応剤ガスの強制的浸透のための圧力勾配法、これらの方法を実施するための装置および得られる製造物に関する。本発明は、多量の(数百の)飛行機ブレーキディスクの同時CVI/CVD加工のために特に適している。
請求項(抜粋):
多孔質構造の第1部分が該多孔質構造の第2部分よりも高い圧力に付され、そして該第1部分が該第2部分よりも大きい嵩密度増加を持つ圧力勾配CVI/CVD法で、該多孔質構造内に第1マトリックスを析出することによって、CVI/CVD炉内で多孔質構造を部分的に緻密化し;そして 該第2部分が該第1部分よりも大きい嵩密度増加を持つ少なくとも1つの付加的緻密化法で、該多孔質構造内に第2マトリックスを析出することによって、該多孔質構造を引き続き緻密化する、 工程からなるCVI/CVD法。
IPC (4件):
C23C 16/04 ,  C04B 35/83 ,  C04B 41/85 ,  C04B 41/87
FI (4件):
C23C 16/04 ,  C04B 41/85 C ,  C04B 41/87 G ,  C04B 35/52 E

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