特許

J-GLOBAL ID：200903082027334441

ヒ素除去装置

発明者： 鈴木 菜穂子 ,  宮ノ下 友明
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 大澤 斌 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-248290
公開番号（公開出願番号）：特開2000-070923
出願日： 1998年09月02日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】【課題】 吸着材に由来する異物の含有率及び金属イオンの濃度が低い、従って保健衛生及び環境保全の見地からみて安全性の高い処理液を流出するようにしたヒ素除去装置を提供する。【解決手段】 本ヒ素除去装置10は、ヒ素吸着材を充填した吸着塔12を備え、被処理液中のヒ素を吸着除去するヒ素除去装置である。本装置は、吸着塔に流入させる被処理液のpHを弱酸性に調整するために、吸着塔の上流に設けられた酸添加手段14と、吸着塔から流出した処理液を中和するために吸着塔の下流に設けられたアルカリ添加手段16と、吸着材及び吸着材の砕片を捕捉するために、アルカリ添加手段の下流に設けられた、フィルタ18とを備えている。

請求項（抜粋）：

ヒ素吸着材を充填した吸着塔を備え、被処理液中のヒ素を弱酸性条件下において吸着除去するヒ素除去装置であって、吸着塔から流出した弱酸性の処理液を中和するために吸着塔の下流に設けられた中和手段と、吸着材及び吸着材の砕片を捕捉するために、中和手段の下流に設けられた、フィルタとを備えていることを特徴とするヒ素除去装置。

IPC (2件)：

C02F 1/28 ,  C02F 1/62 CCU

FI (2件)：

C02F 1/28 B ,  C02F 1/62 CCU Z

Fターム (15件)：

4D024AA02 ,  4D024AB17 ,  4D024BA13 ,  4D024BA14 ,  4D024BB01 ,  4D024CA01 ,  4D024DA03 ,  4D024DA04 ,  4D024DB05 ,  4D038AA02 ,  4D038AB70 ,  4D038BA06 ,  4D038BB06 ,  4D038BB13 ,  4D038BB17