特許
J-GLOBAL ID:200903082030892463
プロトンによる脱離性基を有する樹脂、および感光性樹脂組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
小谷 悦司
, 植木 久一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-286970
公開番号(公開出願番号):特開2004-123819
出願日: 2002年09月30日
公開日(公表日): 2004年04月22日
要約:
【課題】アルカリ水溶液による現像特性が良好となるアルカリ溶解速度を容易に調整でき、微細なパターン形成にも対応可能で、特にフォトリソグラフィーに好適な感光性樹脂組成物を構成し得る樹脂と、該樹脂を含有する感光性樹脂組成物、および該樹脂の製造方法を提供する。【解決手段】プロトンによる脱離性基を有するエステル基を含有する繰り返しユニット(A)と、プロトンによる脱離性基を有する繰り返しユニット(B)を構成ユニットに含み、さらに繰り返しユニット(A)の前記エステル基の一部がカルボキシル基に変換された繰り返しユニット(C)と、繰り返しユニット(B)のプロトンによる脱離性基の一部が水素原子に変換された繰り返しユニット(D)を構成ユニットに含むものであることを特徴とする樹脂である。
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で示される繰り返しユニット(A)
IPC (4件):
C08F8/12
, C08F212/14
, C08F220/26
, G03F7/039
FI (4件):
C08F8/12
, C08F212/14
, C08F220/26
, G03F7/039 601
Fターム (53件):
2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB16
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025FA17
, 4J100AB07P
, 4J100AB07R
, 4J100AJ08S
, 4J100AL69Q
, 4J100AL71Q
, 4J100BA02P
, 4J100BA02S
, 4J100BA03H
, 4J100BA03P
, 4J100BA03R
, 4J100BA04P
, 4J100BA16H
, 4J100BA16P
, 4J100BA22P
, 4J100BA75P
, 4J100BA76P
, 4J100BC03P
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04P
, 4J100BC04Q
, 4J100BC07P
, 4J100BC07Q
, 4J100BC09P
, 4J100BC09Q
, 4J100CA04
, 4J100CA06
, 4J100CA21
, 4J100CA31
, 4J100HA15
, 4J100HB25
, 4J100HB26
, 4J100HB44
, 4J100HB52
, 4J100HB58
, 4J100HC27
, 4J100HC71
, 4J100HE14
, 4J100HE41
, 4J100JA38
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