特許
J-GLOBAL ID:200903082047258458

偏光ビームスプリッタ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 均
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-240431
公開番号(公開出願番号):特開平11-064630
出願日: 1997年08月21日
公開日(公表日): 1999年03月05日
要約:
【要約】【課題】 本発明はEB蒸着法など、膜に空隙ができる安価な蒸着法で偏光分離膜を製作しても、環境中の湿度変化に影響されることなく、透過率と反射率との比率をほぼ一定にし、これによって光ピックアップなどの特性を安定させる。【解決手段】 偏光分離膜4を構成する1層目の膜9-1、2層目の膜9-2、5層目9-5の膜で分光特性の形を整えて、波長依存性を調整し、使用波長範囲の波長依存性を平らな形ではなく、少し右下がり(長波長側の透過率が低くなる)になるようにするとともに、4層目の膜9-4〜N層目の膜9-Nとして、高屈折率媒体(H)の膜と、低屈折率媒体(L)の膜とを交互に積層するとともに、これらの光学的膜厚比を“1:2”にして、分光特性の横への変動(波長シフト方向)を犠牲にしながら、分光特性の縦への変動(透過率上下方向)を少なくする。
請求項(抜粋):
透明部材上に偏光分離膜となる多層膜を形成し、前記偏光分離膜によって入射された光束をP偏光と、S偏光とに分離する偏光ビームスプリッタにおいて、前記透明部材上に、高屈折率媒体と低屈折率媒体とを交互に積層した偏光分離膜を形成し、該偏光分離膜を、その使用波長範囲における透過率が雰囲気中の湿度によらずほぼ一定となるように構成したことを特徴とする偏光ビームスプリッタ。

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