アクティブマトリクス基板およびアクティブマトリクス基板の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-049885
公開番号（公開出願番号）：特開平5-249491
出願日： 1992年03月06日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：

【要約】【構成】薄膜トランジスタをダイヤモンド薄膜上に形成した、駆動回路内蔵のアクティブマトリクス基板【効果】大電流を消費しても特性劣化の無い安定した駆動回路を形成できる。また、良質の多結晶シリコン薄膜をシリコン層の結晶化を量産化できる。

請求項（抜粋）：

可視光線を透過する基板の一部分にダイヤモンド薄膜が被着形成してあり、上記ダイヤモンド薄膜上に複数の薄膜トランジスタが形成され、上記複数の薄膜トランジスタにより構成されている駆動回路を有するアクティブマトリクス基板。

IPC (2件)：

G02F 1/136 500 , H01L 27/12

引用特許：

審査官引用 (15件)

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