特許
J-GLOBAL ID:200903082054126443
プラズマを用いるダイヤモンドの合成法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-212776
公開番号(公開出願番号):特開平5-032489
出願日: 1991年07月30日
公開日(公表日): 1993年02月09日
要約:
【要約】【目的】 大面積に均一に、しかも比較的速い成長速度でダイヤモンド合成ができる方法を提供する。【構成】 プラズマを用いるプラズマCVD法によりダイヤモンドを合成するに際し、超短波域(30〜300MHz)の電力を用いることを特徴としている。電極は平行平板型電極2、3を用い、基板4上にダイヤモンド膜が得られる。
請求項(抜粋):
プラズマを用いるプラズマCVD法によりダイヤモンドを合成するに際し、超短波域(30〜300MHz)の電力を用いることを特徴とするダイヤモンド合成法。
IPC (3件):
C30B 29/04
, C01B 31/06
, C23C 16/26
引用特許:
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