特許
J-GLOBAL ID：200903082060404161
微小3次元構造を有する構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216483
公開番号（公開出願番号）：特開2001-038738
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：
【要約】【課題】微小3次元構造の付与に必要な微細形状を高精度で形成する。【解決手段】この発明の微小構造体の製造方法は、微小3次元構造用の微細形状に対応するパターンの形成対象である高分子膜2を液状混合物の回転塗布・重合でガラス基板1の平らな表面1aに形成し、パターン形成用のX線露光・現像時には、不要領域を膜厚み方向に貫通させるように除去しているので、高分子膜2を任意の希望厚みで形成でき、高分子膜2の厚みを微細形状の深さに正確に合わせられる。また、パターン形成用のX線露光および現像は不要領域を膜厚み方向に貫通させるように除去しているので、微細形状の底面が荒れる心配も無い。その結果、微小3次元構造の付与に必要な微細形状を高精度で形成することができる。
請求項（抜粋）：
微細形状の形成により付与された微小3次元構造を有する構造体の製造方法であって、(a)基板表面に高分子材料の単量体、溶剤、重合開始剤を含む液状混合物を回転塗布し、この単量体を重合させることにより高分子膜を形成する高分子膜形成過程と、(b)前記高分子膜に選択的にX線露光を行い、その後に現像することにより、不要領域を膜厚み方向に貫通させるように除去して、前記微小3次元構造用の微細形状に対応するパターンを高分子膜に形成するパターン形成過程とを備えていることを特徴とする微小3次元構造を有する構造体の製造方法。
IPC (3件)：
B29C 33/38
, B29C 67/00
, C25D 1/10
B29C 33/38
, B29C 67/00
, C25D 1/10
4F202AH33
, 4F202CA11
, 4F202CB01
, 4F202CD12
, 4F202CK11
, 4F202CK41
, 4F213WA31
