特許

J-GLOBAL ID：200903082062758033

化粧料

発明者： 坪根 和幸 ,  西尾 裕幸 ,  薬丸 雅史
出願人/特許権者： 鐘紡株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-135815
公開番号（公開出願番号）：特開平8-301720
出願日： 1995年05月08日
公開日（公表日）： 1996年11月19日
要約：

【要約】【目的】皮膚刺激が低く、界面活性能にすぐれる陰イオン界面活性剤を配合する化粧料の提供。【構成】特定の構造の2鎖2親水基含有陰イオン界面活性剤を配合する化粧料。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(但し、式中のRCOの炭素数が20、18、16、14、12、10、8であり、Xがスルホン基部、硫酸基部、カルボキシル基部、リン酸基部のいずれかであり、Mが1価又は2価のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンである)で表される2疎水基2親水基含有陰イオン界面活性剤を配合することを特徴とする化粧料。

IPC (5件)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  B01F 17/04 ,  B01F 17/14 ,  B01F 17/22

FI (5件)：

A61K 7/00 C ,  A61K 7/06 ,  B01F 17/04 ,  B01F 17/14 ,  B01F 17/22