特許

J-GLOBAL ID：200903082068515108

深紫外線フォトレジスト用の反射防止膜用コーティング組成物

発明者： パドナマバン・ムニラツナ ,  ダムメル・ラルフ・アール ,  フィクナー・スタンレイ・エイ ,  オウバーランダー・ジョセフ・イー ,  サガン・ジョン・ピー
出願人/特許権者： クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-582851
公開番号（公開出願番号）：特表2002-530696
出願日： 1999年11月09日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：

【要約】本発明は、ポリマー、熱酸発生剤及び溶剤組成物を含む、新規の反射防止膜用コーティング組成物に関する。更に本発明は、フォトリソグラフィにこのような組成物を使用するための方法も含む。この組成物は約130nm (ナノメータ)〜約250nm の範囲の放射線を強く吸収する。

請求項（抜粋）：

以下の構造【化1】[式中、 Xは、CO2 、OまたはSO2 であり、そしてnは0または1であり、xは整数で あり、そしてyは0または整数であり、但しnが0の時は、yは整数であり 、 Rは、水素、ハロゲン、ニトロ、アルキル(C1-C4) 、アルコキシ(C1-C4) また はエステル(C1-C4) であり、そしてmは1〜4であり、 R1〜R7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、アルキル(C1-C4) 、脂環式基、 アルコキシ(C1-C4) 、エステル(C1-C4) 、CO2 、( アルキル)OH 、CO2(アル キル)COCH2COCH3 であり、ここで更にR7及びR6は一緒になって、飽和した環 または無水物を形成する]を有するポリマー、架橋剤、熱酸発生剤及び溶剤を含む、フォトレジストのための反射防止膜を作るのに有用な組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 574

Fターム (9件)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA11 ,  2H025AA17 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025DA34 ,  5F046PA07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 反射防止膜材料用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-208631   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (1件)

• 反射防止膜材料用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-208631   出願人：富士写真フイルム株式会社