露光方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999003070
公開番号（公開出願番号）：WO1999-066542
出願日： 1999年06月09日
公開日（公表日）： 1999年12月23日
要約：

【要約】レチクルと投影光学系との相対的な位置関係を高精度に検出し、レチクルとウエハとの位置合わせを高精度に行うことのできる露光方法及び装置である。レチクル(R)の位置計測用の移動鏡としての平面鏡(17X)をレチクルステージ(11)内の微動ステージ(9)の底面の凸部の側面に設置することによって、平面鏡(17X)をレチクルステージ(11)の移動面(14a)より下側に配置する。参照鏡(22X)を投影光学系(5)の側面の上部に設置する。レーザ干渉計本体(21X)より、平面鏡(17X)に計測用のレーザビーム(LXM)を照射し、参照鏡(22X)に参照用のレーザビーム(LXR)を照射し、2つのレーザビーム(LXR,LXM)の干渉光を光電検出することによって微動ステージ(9)(レチクル(R))の位置を検出する。レチクルステージ(11)を駆動する際には、その駆動反力を相殺するようにレチクルフレーム(13)を移動する。

請求項（抜粋）：

マスクのパターンの像を基板上に露光する露光装置において、前記マスクと前記基板との間に配設され、前記パターンの像を前記基板に投影する投影光学系と; 前記マスクを保持して移動させるマスクステージと; 該マスクステージを支持するマスクベースと; 前記マスクステージに対して計測用光ビームを照射し、前記投影光学系の近傍に配置された参照鏡に参照用光ビームを照射し、前記2つの光ビームの干渉光に基づいて前記マスクステージの位置を検出する干渉計と、を有し、前記マスクステージの前記計測用光ビームの照射位置は、前記マスクベースの前記マスクステージの移動面より前記投影光学系側に設定されていることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505

FI (2件)：

H01L 21/30 515 B , G03F 7/20 505

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