特許
J-GLOBAL ID：200903082080511886
レーザビームによるアブレーション装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-061211
公開番号（公開出願番号）：特開平5-220189
出願日： 1992年02月14日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、製作の難しい光学素子や複雑な光学系も使用せずに、簡単な構成で均一な深さのアブレーションを行うことができる装置を提供することにある。【構成】 エキシマレ-ザのようにビーム断面の一方向が均一でそれと直交する方向がガウス分布等の不均一な強度分布を持ったレーザビームを、不均一な強度分布を持つ方向にスキャンする反射系光学素子を設けると共に、開口部の面積が制御可能な絞りを設けるように構成している。
請求項（抜粋）：
ビーム断面の一方向が均一でそれと直交する方向がガウス分布等の不均一な強度分布を持ったレーザビームにより対象物のある面積をアブレーションするレーザビームによるアブレーション装置において、前記レーザビームを対象物に導光するとともにレーザビームを不均一な強度分布を持つ方向にスキャンする反射系光学素子と、開口部の面積が制御可能な絞りと、を有することを特徴とするレーザビームによるアブレーション装置。
IPC (3件)：
A61F 9/00 311
, A61B 17/36 350
, A61N 5/06
