特許
J-GLOBAL ID：200903082092915109
高精細リブおよび前記高精細リブの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小倉 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-273066
公開番号（公開出願番号）：特開平9-109026
出願日： 1995年10月20日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：
【要約】【課題】基板上にリブをより幅狭でより均一により高い、高精細リブとその効率良い形成方法を提供する。【解決手段】基板の片面の全表面にブラスト性を有する低融点ガラスペーストを塗布して低融点ガラス層12を形成する。低融点ガラス層12の表面に耐ブラスト性低融点ガラスペーストを塗布してレジスト層13をパターン形成する。低融点ガラス層12の表面側から研掃材を噴射してブラスト加工すると、レジスト層13下層以外の低融点ガラス層12がすべて研掃材で研削され除去される。低融点ガラス層12とレジスト層13で成るリブ14が形成される。リブ14は幅狭であっても高く均一に形成される。次いで、レジスト層を剥離することなくレジスト層及び該レジスト層下層の低融点ガラス層12の低融点ガラス層を焼成して固化し、リブを形成する。レジスト層13はリブ14の高さの10〜15%に相当し、リブの一部となるので高精細リブの形成に寄与する。
請求項（抜粋）：
基板上の全面に形成したブラスト性を有する低融点ガラス層と、該低融点ガラス層の表面に所定パターンに形成した耐ブラスト性低融点ガラスペーストから成るレジスト層と、前記レジスト層及び該レジスト層下層の低融点ガラス層を焼成して成る高精細リブ。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B24C 1/04 D
, B24C 1/04 C
, H01J 9/02 F
