特許

J-GLOBAL ID：200903082096856182

ウエハパターン観察方法及び装置

発明者： 松岡 良一
出願人/特許権者： セイコーインスツルメンツ株式会社
代理人 (1件)： 坂上 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-214845
公開番号（公開出願番号）：特開2002-033365
出願日： 2000年07月14日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】 ウエハパターンの管理ポイントを自動的に決定してそれらの観察画像を自動的に取得できるようにすること。【解決手段】 観察位置指示部8によって、CADデータに基づいてウエハ4上に形成されたウエハパターンの複数の管理ポイントをメモリ6内に格納されている上記CADデータを解析することにより決定すると共に決定された複数の管理ポイントに従う観察座標データDを生成し、該観察座標データDに従ってナビゲーションユニット5を動作させ、パターン観察装置本体3を複数の管理ポイントに順次自動的に位置合わせして観察するようにした。

請求項（抜粋）：

CADデータに基づいてウエハ上に形成されたウエハパターンの複数の管理ポイントをパターン観察装置で拡大して観察するためのウエハパターン観察方法であって、前記CADデータの解析により複数の管理ポイントを決定し、決定された複数の管理ポイントに従う一群の観察座標データを得、該一群の観察座標データに従い前記CADデータを参照して位置合わせナビゲーションを行い、前記ウエハパターンの前記決定された複数の管理ポイントを順次観察するようにしたことを特徴とするウエハパターン観察方法。

IPC (4件)：

H01L 21/66 ,  G01B 11/00 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/66 J ,  G01B 11/00 C ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/30 502 V

Fターム (31件)：

2F065AA03 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065EE00 ,  2F065FF16 ,  2F065JJ03 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ38 ,  2F065TT02 ,  2G051AA51 ,  2G051AB07 ,  2G051AC22 ,  2G051CA11 ,  2G051ED23 ,  4M106AA01 ,  4M106BA10 ,  4M106CA38 ,  4M106CA50 ,  4M106DB18 ,  4M106DH50 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ07 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21