ガスハイドレートの生成制御剤およびそれを用いたガスハイドレートの生成制御方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-044608
公開番号（公開出願番号）：特開2001-234182
出願日： 2000年02月22日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：

【要約】【課題】ガスハイドレートの生成を阻害する働きと、ガスハイドレートを平衡論的および速度論的に安定化させる働きを併せ持つガスハイドレートの生成制御剤、およびガスハイドレートの生成制御方法を提供する。【解決手段】少なくとも両親媒性ポリマーを含む粒子を有効成分とするガスハイドレートの生成制御剤、および、このガスハイドレートの生成制御剤を、ガスハイドレートが生成可能な系に添加することを特徴とするガスハイドレートの生成制御方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも両親媒性ポリマーを含む粒子を有効成分とするガスハイドレートの生成制御剤。

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