特許
J-GLOBAL ID：200903082143433767
マスクの位置ずれ検出用マーク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-249345
公開番号（公開出願番号）：特開平11-074189
出願日： 1997年08月29日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 常に適正な組み合わせの第1のマークと第2のマークを使用してマスクの位置ずれを測定することが可能な,マスクの位置ずれ検出用マークを提供する。【解決手段】 ホトリソ工程で使用されるマスクの位置ずれを検出するための,各マスクに対応した第1のマーク1a,2a,3aと,その中に配置される第2のマーク1b,2b,3bからなるマスクの位置ずれ検出用マーク1,2,3において,第1のマーク1a,2a,3aの形状を,各マスク毎に異なる形状としたことを特徴とする。この位置ずれ検出用マークは,形状の違いにより適正な第1のマーク1a,2a,3aを識別できる。
請求項（抜粋）：
ホトリソ工程で使用されるマスクの位置ずれを検出するための,各マスクに対応した第1のマークと,この第1のマークの中に配置される第2のマークからなるマスクの位置ずれ検出用マークにおいて,前記第1のマークの形状を,各マスク毎に異なる形状としたことを特徴とするマスクの位置ずれ検出用マーク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 M
, G03F 9/00 H
