特許
J-GLOBAL ID：200903082151201271
成膜装置及び成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032684
公開番号（公開出願番号）：特開2000-230064
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：
【要約】【課題】外部電極をいちいち交換せず外部電極と容器の隙間による非常に高い真空度を容易に維持する。【解決手段】容器の内外面に薄膜を形成するプラズマCVD等の成膜装置において、電極と容器の間にプラスチック製の外筒を設けたことを特徴とする成膜装置であり、これは容器の大きさや形状を変化させる場合、外筒だけを交換することが出来ることから好ましい。
請求項（抜粋）：
プラスチック容器の内面及び外面に薄膜を形成する真空成膜装置において、電極と成膜対象の間にプラスチック製で電極に電気的に接触しかつ成膜対象から一定の間隔を設けるよう製作された外筒を設けたことを特徴とする成膜装置。
Fターム (5件)：
4F006AA12
, 4F006AA35
, 4F006AB73
, 4F006BA05
, 4F006CA07
