特許
J-GLOBAL ID：200903082171721050
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-153280
公開番号（公開出願番号）：特開平11-003799
出願日： 1997年06月11日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：
【要約】【課題】本発明は、アッシングのような、比較的高圧力(0.1 〜 10 Torr )、大流量(500 sccm 〜)で行われるプロセスにおいて、処理レートの円周方向の不均一性を解消することを目的とする。【解決手段】処理レートの円周方向不均一性は、処理室内に発生するプラズマが完全な軸対称ではなく、プラズマにより生成される活性種も円周方向に不均一になっている事に起因する。プラズマにより発生した活性種の被処理基板上での密度を均一にするため、ガス導入口の後ろに、傾斜型シャワープレートや、整流板を設ける。【効果】傾斜型シャワープレート、整流板等を用いることにより、処理室内に旋回流れを発生させる事ができる。プラズマにより発生した活性種を、この旋回流れをもちいて被処理基板上まで輸送することにより、基板表面上での活性種の円周方向不均一性は改善される。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理を行う処理室と、処理用のガス導入手段及び排気手段と、非処理物を載置するステージと、電力供給手段を具備し、処理室内に処理用ガスの旋回流を発生させるように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
H05H 1/46 L
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, H01L 21/31 C
, H01L 21/302 B
