特許
J-GLOBAL ID：200903082190889639
レジストの塗布方法および塗布装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-213367
公開番号（公開出願番号）：特開平5-055131
出願日： 1991年08月26日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：
【要約】【目的】 ウェハの全表面にわたって、より均一な厚さでレジストを塗布することができる方法および装置を提供する。【構成】 回転ヘッド3に固定されたウェハ4上に、レジストを滴下した後、回転ヘッド3を回転させることにより、滴下されたレジスト液をウェハ4の表面に広げる方法および装置において、第1の局面では、図1(a)に示すように、複数のノズル6、7および8からウェハ4上で回転中心から距離が異なる複数の場所にレジスト液を滴下し、かつレジスト液の粘度は回転中心からの距離が大きくなるにつれてより高くなることを特徴とし、第2の局面では、図1(b)に示すように、ウェハの回転中心の上方に設けられる熱源10により滴下されたレジスト液を加熱しながらウェハ上に広げることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ウェハ上にレジスト液を滴下するレジスト滴下工程と、前記ウェハを回転させることにより、滴下されたレジスト液を前記ウェハの表面全体に拡げる回転塗布工程とを備えるレジストの塗布方法において、前記レジスト滴下工程が、前記ウェハ回転中心からの距離が異なる前記ウェハ上の複数の箇所に、前記回転中心からの距離が大きくなるにつれてより高い粘度を有するレジスト液を滴下することを特徴する、レジストの塗布方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, B05D 1/40
H01L 21/30 361 B
, H01L 21/30 361 C
