特許
J-GLOBAL ID：200903082196654374
結像位置測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-221524
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062882
出願日： 1991年09月02日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：
【要約】【目的】 あらゆる方向に伸びたパターンについてのベストフォーカスの計測を可能とするとともに、このベストフォーカスに基づいて投影光学系の像面湾曲や非点収差量等の収差の計測を可能とする。【構成】 基板上のパターンの長さを計測することによってパターンのベストフォーカスを求める場合に、パターン1の長手方向を長さの計測方向に対して所定の角度θだけ傾斜させる。
請求項（抜粋）：
マスク上に形成されたパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に転写露光し、転写された前記パターンの像の長さに基づいて、前記投影光学系の像面内の少なくとも1点の焦点位置を求める焦点位置測定方法において、前記パターンは、連続的もしくは段階的に線幅が変化する直線状のものであって、且つ前記パターンの長手方向は、前記長さを計測する方向に対して所定の角度だけ傾斜していることを特徴とする焦点位置測定方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 7/207
