特許

J-GLOBAL ID：200903082207385079

露光装置及びこれを用いたデバイス生産方法

発明者： 三枝 克己
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-167377
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017719
出願日： 1995年07月03日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】 高精度なデバイスを低コストで生産することができるマスク及び露光装置の提供。【構成】 パターンを表示する反射式液晶表示手段(光書き込み型または電気書き込み型の反射式液晶)をマスクとして用い、これに露光光を照射して反射光をウエハに投影してパターンを露光転写する。

請求項（抜粋）：

パターンを表示する反射式液晶表示手段と、ウエハを搭載するステージと、該反射式液晶表示手段に表示されたパターンを照明する手段と、該パターンで反射した光をウエハに投影する手段とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

H01L 21/30 517 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P