特許
J-GLOBAL ID：200903082220394397

光走査装置及びそれを用いた画像形成装置

発明者：
下村 秀和

下村 秀和 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-394085
公開番号（公開出願番号）：特開2002-277803
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：
【要約】【課題】 500nm以下の短波長光源を用いた光走査装置において、絶対反射率が高く、波長依存性と角度依存性が少ない反射ミラーを用いた光走査装置を提供する。【解決手段】 半導体レーザー1からの発散光をコリメータレンズ2により略平行な光ビームに変換した後、絞り3により所望のスポット径に光束径を制限し、ポリゴンミラー5からの反射光を走査結像レンズ6及び7により、全走査域にわたって微小な光スポットに成形する。半導体レーザー1は窒化ガリウム系の半導体レーザーであり、その発振波長は408nmである。ポリゴンミラー5(反射鏡)は、その反射鏡の反射特性に寄与する金属膜の複素屈折率Nを、N(λ)=n(λ)-ik(λ)と定義したとき、k(λ)>√(-n(λ)2+18n(λ)-1)を満足する反射鏡を用いた。
請求項（抜粋）：
光源からの光ビームを偏向し、被走査面上に結像させる光走査装置において、前記光源の波長は500nm以下であり、この光源からの光ビームを反射する反射鏡を備え、この反射鏡の反射特性に寄与する金属膜の複素屈折率Nを、N(λ)=n(λ)-ik(λ) ただし、n,k>0n(λ):複素屈折率の実数部i=√-1k(λ):複素屈折率の虚数部(消衰係数)λ:波長と定義したとき、k(λ)>√(-n(λ)2+18n(λ)-1)を満足する反射鏡を用いたことを特徴とする光走査装置。
IPC (4件)：
G02B 26/10 101 ,  G02B 26/10 ,  G02B 26/10 103 ,  B41J 2/44
FI (4件)：
G02B 26/10 101 ,  G02B 26/10 D ,  G02B 26/10 103 ,  B41J 3/00 D
Fターム (10件)：
2C362AA03 ,  2C362BA05 ,  2C362BA06 ,  2C362BA83 ,  2C362BA85 ,  2C362BA86 ,  2C362BA87 ,  2H045AA06 ,  2H045CA68 ,  2H045DA02
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 光ビーム走査装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-128208   出願人：富士写真フイルム株式会社
審査官引用 (1件)
  • 光ビーム走査装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-128208   出願人：富士写真フイルム株式会社

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