特許

J-GLOBAL ID：200903082223785389

光触媒層の形成方法

発明者： 菅沼 武
出願人/特許権者： ヤマハリビングテック株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-319848
公開番号（公開出願番号）：特開2001-137711
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：

【要約】【課題】耐アルカリ性、耐水性等に優れた光触媒層を各種基材上に形成し得る方法を提供する。【解決手段】シリコン変性アクリル樹脂、ケイ素含有化合物、並びにジルコニウム化合物、チタニウム化合物及びアルミニウム化合物から選ばれた少なくとも一種の金属化合物、を有機溶媒に溶解又は分散させてなる組成物を用いてプライマー皮膜を形成した後、ジルコニウム化合物及びチタニウム化合物から選ばれた少なくとも一種の化合物を溶媒に溶解した組成物を用いて中間層を形成するか、或いは中間層を生成することなく、光触媒性酸化物粒子、ジルコニウム化合物及び溶媒を含有する組成物を用いて光触媒層を形成する方法。

請求項（抜粋）：

(I)(a)アルコキシル基及びハロゲン原子から選ばれた少なくとも一種の置換基を有するシリル基を側鎖に有するアクリル樹脂、(b)一般式(1):R1aSiClb(OH)c(OR2)d(式中、R1はアミノ基及びカルボキシル基から選ばれた少なくとも一種の置換基を有することのある炭素数1〜8の1価炭化水素基を示し、R2は、置換基としてアルコキシル基を有することのある炭素数1〜8の1価炭化水素基を示し、aは、0〜3の整数、bは0〜2の整数、cは、0〜3の整数、dは0〜4の整数であって、a+b+c+d=4である)で表される化合物、及びその縮重合反応生成物から選ばれた少なくとも一種のケイ素含有化合物、並びに(c)ジルコニウム化合物、チタニウム化合物及びアルミニウム化合物から選ばれた少なくとも一種の、有機溶媒に溶解又は均一に分散できる金属化合物を有機溶媒に溶解又は分散させてなる組成物を、基材上に塗布し、硬化又は半硬化状態としてプライマー皮膜を形成した後、(II)光触媒性酸化物粒子、ジルコニウム化合物及び溶媒を含有する組成物を、該プライマー皮膜上に塗布し、硬化させて光触媒層を形成することを特徴とする光触媒層の形成方法。

IPC (3件)：

B01J 35/02 ,  B01J 21/02 ,  B01J 21/06

FI (3件)：

B01J 35/02 J ,  B01J 21/02 M ,  B01J 21/06 M

Fターム (32件)：

4G069AA01 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01B ,  4G069BA04B ,  4G069BA05B ,  4G069BA27A ,  4G069BA27B ,  4G069BA27C ,  4G069BA32A ,  4G069BA32C ,  4G069BA37 ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069BB08B ,  4G069BC16A ,  4G069BC22A ,  4G069BC22B ,  4G069BC22C ,  4G069BC50A ,  4G069BD12B ,  4G069BE09A ,  4G069BE09B ,  4G069BE09C ,  4G069BE32A ,  4G069BE32B ,  4G069BE32C ,  4G069EB18Y ,  4G069EC03Y ,  4G069ED01 ,  4G069ED04 ,  4G069FB13 ,  4G069FB24