特許

J-GLOBAL ID：200903082237953187

静電吸着装置

発明者： 日下 克宏 ,  鈴木 貴彦
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  株式会社富士通東北エレクトロニクス
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-047546
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263527
出願日： 1994年03月17日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】本発明は半導体製造プロセスにおいてウェハを吸着保持する静電吸着装置に関し、吸着される被吸着体に対する熱的影響を低減することを目的とする。【構成】静電力を利用してウェハを吸着する構成とされており、静電力を発生する電極部とこの電極部が配設される絶縁部材13とから構成される静電チャック12と、この静電チャック部12を装着する基台14とにより構成される静電吸着装置において、基台14に凸部16を形成し、静電チャック部12と装着部14とがこの凸部16により直接接触し熱的に接続される構成とする。

請求項（抜粋）：

静電力を利用して被吸着体(22)を吸着する構成とされており、該静電力を発生する電極部(24,26)と該電極部(24,26)が配設される絶縁部材(13,43)とから構成される静電チャック部(12,42,52)と、該静電チャック部(12,42)を装着する装着部(14,44)とにより構成される静電吸着装置において、少なくとも該静電チャック部(12,42)或いは該装着部(14,44)に、該静電チャック部(12,42)と該装着部(14,44)とが直接接触し熱的に接続される熱接続部(16,47)を形成してなることを特徴とする静電吸着装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/3065