特許
J-GLOBAL ID：200903082240607176
プラズマ閉じ込めを使用するプラズマエッチング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-147040
公開番号（公開出願番号）：特開平9-027396
出願日： 1996年06月10日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：
【要約】プラズマエッチング装置は石英リングの積み重ねを含み、それらのリングは、間隔を置いて配置され、リング間に隙間を形成し、装置の2個の電極間にある相互作用空間を取り囲む様に配置され、装置の運転中、その空間にプラズマが形成される。隙間の寸法は、相互作用空間から出るプラズマ中の使用済みガスの帯電粒子が、粒子が隙間から出る時に壁に衝突して確実に中和される様に選択する。異なった周波数の2個の電圧供給源を使用し、各供給源を互いに分離する様式で電圧を電極に印加する。
請求項（抜粋）：
加工品の処理に有用な気体状媒体を収容する手段、無線周波数エネルギーを供給して電極間に放電を起こし、気体状媒体をイオン化した時に、電極の一方の上に支持された加工品を処理できるプラズマを発生する相互作用空間を限定する平行な一対の電極、および閉じ込め機構、該閉じ込め機構は、閉じ込め機構を通して内側表面から外側表面に伸びる、ガスを流す複数の個別の平行な通路を限定し、該平行な通路は、該通路を通るガス流の方向に対して直角の方向で間隔を置いて配置されており、該閉じ込め機構が電極間に配置され、該通路の大きさが、プラズマ中に形成された帯電粒子が該通路を通過する時に、該帯電粒子を中和することにより、放電を相互作用空間内に本質的に閉じ込める様に調整されている、ことからなるプラズマ処理装置。
IPC (6件)：
H05H 1/46
, B01J 19/08
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, C23C 16/50
H05H 1/46 A
, B01J 19/08 E
, C23F 4/00 A
, C23F 4/00 C
, H01L 21/205
, C23C 16/50
, H01L 21/302 C
