特許

J-GLOBAL ID：200903082241901337

ワークとマスクの分離機構

発明者： 氏益 稔
出願人/特許権者： 株式会社オーク製作所
代理人 (1件)： 磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-024901
公開番号（公開出願番号）：特開2001-215716
出願日： 2000年02月02日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：

【要約】【課題】 露光装置において露光処理が終了した後、ワークとマスクの分離を容易にするための手段を備える分離機構を提供する。【解決手段】 載置ステージ2上にワーク3とマスク5とを配置して所定パターンを露光する露光装置1に用いられ、ワーク3とマスク5との密着を解除する際に、前記ワーク3とマスク5の接触界面に気体を吹き付けるための気体吹付口21を有する気体供給手段を、前記載置ステージ2に設けてなるワークとマスクの分離機構として構成した。

請求項（抜粋）：

載置ステージ上にワークとマスクとを配置して所定パターンを露光する露光装置に用いられ、前記ワークと前記マスクとの密着を解除する際に前記ワークと前記マスクの接触界面に気体を吹き付けるための気体供給手段を、前記載置ステージに設けたことを特徴とするワークとマスクの分離機構。

IPC (2件)：

G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 505

Fターム (5件)：

2H097GA33 ,  5F046BA01 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC19

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭53-021574
  
• 特開平3-125420
  
• 特開昭53-021574
  
• 特開平3-125420