特許

J-GLOBAL ID：200903082242726024

シラニレンジアルキニレンポリマーおよびその製造方法

発明者： 畠中 康夫 ,  杉田 光 ,  檜山 爲次郎
出願人/特許権者： 財団法人相模中央化学研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-065398
公開番号（公開出願番号）：特開平8-277331
出願日： 1995年03月24日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：

【要約】【構成】 ジハロシラン類を金属亜鉛粉末の存在下、ジイン類と反応させることからなる、一般式【化1】(式中、R1およびR2は水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基またはアセチレン水素をもたないアルキニル基を表す。Xはハロゲン原子を表す。lは1以上の整数を表す。R3はアルキレン基、アリレン基、アルケニレン基、アルキニレン基またはシラニレン基である。mは0または1を示す。)で表されるシラニレンジアルキニレンポリマーの製造方法、および新規シラニレンジアルキニレンポリマー。本方法においては、金属鉛もしくは鉛塩を共存させることが好ましい。【効果】 導電材料または耐熱材料などの機能性高分子として有用なシラニレンアルキニレンポリマーを経済的かつ容易に合成できる。

請求項（抜粋）：

下記一般式[I]【化1】(式中、R1およびR2は独立に、水素原子、あるいは、置換もしくは未置換の、低級アルキル基、アリール基、低級アルケニル基、またはアセチレン水素をもたない低級アルキニル基を表す。Xはハロゲン原子を表す。pは1以上の整数を表す。)で表されるジハロシランと、下記一般式[II]【化2】(式中、R3は二価の有機基またはシラニレン基を表す。mは0または1を示す。)で表されるジインを、金属亜鉛の存在下に反応させることを特徴とする、下記一般式[III]【化3】(式中、R1、R2、R3、pおよびmは前記と同一の意味を表す。)で表される繰り返し単位からなるシラニレンジアルキニレンポリマーの製造方法。

IPC (3件)：

C08G 77/50 NUM ,  C08G 77/08 NUD ,  C08G 77/20 NUG

FI (3件)：

C08G 77/50 NUM ,  C08G 77/08 NUD ,  C08G 77/20 NUG