特許

J-GLOBAL ID：200903082247232879

リフトオフイメージングプロフィルを得る方法

発明者： スパック・マーク・エイ ,  ダメル・ラルフ・アール ,  デプラド・マイケル
出願人/特許権者： クラリアント・インターナショナル・リミテッド
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-531775
公開番号（公開出願番号）：特表平11-504446
出願日： 1997年02月18日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：

【要約】以下の段階:a) プラズマで腐蝕可能な材料からなり、この際この材料が約0.5μm(マイクロメーター)よりも薄い膜厚を有する第一層を作り、b) 上記第一層の上表面にフォトイメージ可能な材料からなる第二層を作り、c) 上記第二層を選択的に露光しそして現像する段階によって、この第二層にパターンを形成し、d) 第二層を有機ケイ素材料と反応させ;そしてe) 酸素雰囲気中で第一層を等方性的に腐蝕する、ことを含むリフトオフイメージングプロフィルを得る方法。

請求項（抜粋）：

以下の段階:a) プラズマで腐蝕可能な材料からなり、この際この材料が約0.5μm(マイクロメーター)よりも薄い膜厚を有する第一層を作り、b) 上記第一層の上表面にフォトイメージ化可能な材料からなる第二層を作り、c) 上記第二層を選択的に露光しそして現像する段階によって、この第二層にパターンを形成し、d) 第二層を有機ケイ素材料と反応させ;そしてe) 酸素雰囲気中で第一層を等方性的に腐蝕する、ことを含むリフトオフイメージングプロフィルを得る方法。

IPC (4件)：

G03F 7/26 513 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/38 512

FI (4件)：

G03F 7/26 513 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/38 512