特許
J-GLOBAL ID：200903082273298730
新規複合構造体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-500599
公開番号（公開出願番号）：特表平8-510771
出願日： 1994年03月07日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：
【要約】次の(i)及び(ii)を含む複合構造体:(i)剥離組成物を含む剥離ライナー;及び(ii)比較的高い貯蔵弾性率を有する粘着剤で被覆された裏張り。この複合構造体は用いた剥離剤の故に低騒音を示す。
請求項（抜粋）：
次の(i)及び(ii)を含む複合構造体: (i)その主平面の少なくとも一部の上に次式Iのエポキシシロキサンを含む出発物質の反応生成物を含む第1の層を載せた第1の基材: ここに、Rは炭素原子数1〜3の低級アルキル基であり; R1は枝分かれしたアルキル又は脂環式基;アリール基;直鎖、枝分かれしたもしくは環状のアルケニル基;又は直鎖の、枝分かれした又は環状のアラルキル基であり;4〜約50(好ましくは6〜約20)の炭素原子を含み;任意に1又はそれ以上の官能基で置換されていてもよいが、エポキシ官能基との反応によってエポキシシロキサンの架橋を増やすような官能基はなく; Eは、直鎖の脂肪族、枝分かれした脂肪族、脂環式、又はこれらの混合物でありうる1価のエポキシ官能基であり; Mは、R3Si-,R2R1Si-,RR12Si-,R13Si-,R2ESi-,RE2Si-,E3Si-,R12ESi-,R1E2Si-及びRR1ESi-(ここに、R、R1、及びEは上に定義した通りである)から選ばれるシリル基であり; xは、0又は約200迄の値をとり; yは、0又は約40迄の値をとり; zは、1又は約200-xの値をとり、;そして qは、1〜約75の値をとり; 但し、前記エポキシポリシロキサンは少なくともE基を有するが、式I中のシロキサン基の全数の約20%未満、好ましくは約18%未満、最も好ましくは約16%未満がEで置換されており; 前記第1の層は触媒として有効な量のカチオン硬化触媒の存在下に硬化される;並びに (ii)その主平面の少なくとも一部に、25°Cで、100ラジアン/秒でのねじり剪断を測定したとき、少なくとも約6×105ダイン/cm2の貯蔵弾性率を有する粘着剤を含む第2の層を載せた第2の基材であって、前記第1の層の第1の基材の反対側の表面に前記粘着剤でくっつけられているもの。
IPC (7件)：
C09J 7/02 JKV
, B32B 27/00 101
, C07F 7/18
, C09J 7/02 JJR
, C09J163/00 JFM
, C09J183/06 JGF
, D21H 27/00
C09J 7/02 JKV
, B32B 27/00 101
, C07F 7/18 X
, C07F 7/18 W
, C09J 7/02 JJR
, C09J163/00 JFM
, C09J183/06 JGF
, D21H 5/00 B
