特許
J-GLOBAL ID：200903082279422920
電子放出素子および画像形成装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-209374
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055569
出願日： 1994年08月11日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：
【要約】【目的】 電子放出部形成用薄膜の減少を抑え、また素子特性のバラツキの少ない電子放出素子及び画像形成装置の製造方法を提供する。【構成】 対向する電極間に電子放出部を有する電子放出素子において、電子放出部形成用薄膜の原料として、反応により生成した金属水酸化物またはこれに有機酸を添加して得られた有機酸塩、更に必要に応じて還元剤を添加した溶液を用い、熱処理して金属微粒子膜または金属酸化物微粒子膜とする電子放出素子の製造方法及び複数の電子放出素子を有する画像形成装置の製造方法。還元剤として、ぎ酸、蓚酸、酢酸、アルデヒド類またはヒドラジンから選ばれた一種または二種以上を用いる。
請求項（抜粋）：
対向する電極間に電子放出部を有する表面伝導型電子放出素子の製造方法において、対向する電極間に反応により生成した金属水酸化物からなる薄膜を設け、該薄膜を熱処理して金属微粒子膜または金属酸化物微粒子膜とした後、通電処理して薄膜に電子放出部を形成することを特徴とする電子放出素子の製造方法。
IPC (2件)：
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