特許
J-GLOBAL ID：200903082279850540
ステージ駆動方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-076045
公開番号（公開出願番号）：特開平6-291019
出願日： 1993年04月02日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】 スリットスキャン露光方式の露光装置において、レチクル側のステージに設けられた移動鏡に曲がりが存在しても、ショット内歪みが生じないようにする。【構成】 レチクル12上に曲がり計測用マークを形成し、x軸用の干渉計14xで移動鏡21xからのレーザービームを用いて計測した座標を所定の値に維持した状態で、レチクル微小駆動ステージ11を介してレチクル12をy方向に移動させる。この際に、曲がり計測用マークと所定の基準マークとの位置ずれ量を検出し、この位置ずれ量から移動鏡21xの曲がり量を求める。
請求項（抜粋）：
所定の走査方向に伸びた案内部が形成されたマスクガイドと、該マスクガイドに前記走査方向に摺動自在に載置されたマスクステージと、該マスクステージに取り付けられた前記走査方向にほぼ平行な反射面を有する移動鏡と、該移動鏡に計測用ビームを照射することにより前記マスクステージの前記走査方向に垂直な方向への座標を求める計測手段と、前記走査方向とほぼ平行な方向に移動自在な基板ステージとを有し、照明光で所定形状の照明領域を照明し、前記所定形状の照明領域に対して前記走査方向に前記マスクステージを介して転写用のパターンが形成されたマスクを走査し、該マスクの走査と同期して前記所定形状の照明領域に対して前記基板ステージを介して基板を走査することにより、前記マスク上のパターンを順次前記基板上に露光する露光装置の、前記マスクステージの駆動方法であって、前記マスクステージ上に計測用マークが形成されたマスクを載置する第1工程と、前記所定形状の照明領域に対して固定された基準位置と前記計測用マークとの位置ずれ量を計測した状態で、前記マスクステージを前記走査方向に走査して、前記計測手段により前記マスクステージの前記走査方向と直交する方向の座標を計測することにより、前記移動鏡の曲がり量を求める第2工程とを有し、前記所定形状の照明領域に対して前記走査方向に前記マスクステージを介して転写用のマスクを走査する際に、前記第2工程で求められた前記移動鏡の曲がり量を補正するように前記マスクステージを前記走査方向に垂直な方向に動かすことを特徴とするステージ駆動方法。
IPC (6件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
, G12B 5/00
, H01L 21/68
