特許

J-GLOBAL ID：200903082295688701

水溶性組成物、それを用いたパタン形成方法及び半導体装置の製造方法

発明者： 逆水 登志夫 ,  白石 洋
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-103668
公開番号（公開出願番号）：特開平7-311467
出願日： 1994年05月18日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：

【要約】【目的】高感度、かつ、高解像度でパタンを現出させるパタン形成方法を提供すること。【構成】基板101上に、酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が変化する反応性を持った媒体と、放射線照射により酸を生じる化合物とからなる化学増幅系のレジスト層102を形成し、このレジスト層上に、水溶性高分子化合物と水溶性酸前駆体とを有する水溶性組成物からなるバリヤ層103を形成し、放射線を用いてレジスト層102に所望のパタン潜像を形成し、酸を触媒とする反応を促進し、さらに、アルカリ水溶液を現像液とする現像によりレジストパタン105を形成するパタン形成方法。

請求項（抜粋）：

水溶性高分子化合物と水溶性酸前駆体とからなることを特徴とする水溶性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/11 501 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/312

FI (2件)：

H01L 21/30 561 ,  H01L 21/306 D