特許

J-GLOBAL ID：200903082322888351

フォトマスク及びその製造方法

発明者： 横山寿文 ,  松本真佐美 ,  宮下裕之
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-256560
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104816
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 特にレベンソンタイプ下シフター型位相シフトフォトマスクを用いて転写されたパターンの隣接するパターン相互の寸法差を解消する。【解決手段】 フッ酸蒸気又はフッ酸を主成分とする溶液の蒸気により、フォトマスクのガラス部1又は位相シフター部をエッチングすることにより、エッチング部の断面にオーバーハングした形状を持たせる。フォトマスクとしては、レベンソンタイプ石英基板彫り込み型位相シフトフォトマスク、下シフター型位相シフトフォトマスクに適用可能であり、すでに彫り込んだ部分のスペース部をオーバーハング形状とすることにより、その周辺の壁により散乱されて遮光層2の開口を通過できない成分が減少するため、遮光層2の隣合ったスペース間の透過光強度差が低減することになる。

請求項（抜粋）：

フッ酸蒸気又はフッ酸を主成分とする溶液の蒸気により、フォトマスクのガラス部又は位相シフター部がエッチングされ、エッチング部の断面がオーバーハングした形状を有していることを特徴とするフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528 ,  H01L 21/302 F