特許
J-GLOBAL ID:200903082327444664

粒状処理物の焙煎方法とその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 北村 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-163252
公開番号(公開出願番号):特開平6-007132
出願日: 1992年06月23日
公開日(公表日): 1994年01月18日
要約:
【要約】【目的】 単位時間当りの水分蒸発量を大きくし、焙煎工程の能率化を計り、製品の品質向上にも寄与できる粒状処理物の焙煎方法及びその装置を提供する。【構成】 整流板15を下部に備えた焙煎室3内に、焙煎対象の粒状処理物2を収納するとともに、整流板15の下部より熱風を焙煎室3内に供給して粒状処理物2を流動状態で加熱処理する熱風流動層焙煎工程と、熱風流動層焙煎工程とともに、流動状態にある粒状処理物にマイクロ波を照射し、粒状処理物2をマイクロ波加熱するマイクロ波焙煎工程とで、粒状処理物により焙煎をおこなう。この目的で、焙煎装置に、整流板15を下部に備えた焙煎室3と、焙煎室3内に整流板15の下部より熱風を供給して、粒状処理物2を流動状態で加熱する熱風供給装置13と、流動状態にある粒状処理物2にマイクロ波を照射して、マイクロ波加熱するマイクロ波加熱装置12とを備える。
請求項(抜粋):
整流板(15)を下部に備えた焙煎室(3)内に、焙煎対象の粒状処理物(2)を収納するとともに、前記整流板(15)の下部より熱風を前記焙煎室(3)内に供給して前記粒状処理物(2)を流動状態で加熱処理する熱風流動層焙煎工程と、前記熱風流動層焙煎工程とともに、流動状態にある前記粒状処理物(2)にマイクロ波を照射し、前記粒状処理物(2)をマイクロ波加熱するマイクロ波焙煎工程とを備えた粒状処理物の焙煎方法。
IPC (2件):
A23N 12/08 ,  A23L 1/20

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